氮化铜薄膜的掺杂研究及进展

摘要：

由于氮化铜薄膜潜在的光存储应用前景,成为近十年来研究的热点材料之一,许多研究小组开始了对氮化铜薄膜掺杂展开了研究.本文综述了3d型过渡金属及其他原子掺杂对氮化铜薄膜结构和性能的影响,鉴于此对其应用前景进行了展望.

关键词：氮化铜薄膜、过渡金属掺杂、前景展望

所属期刊栏目：41

分类号：TG146(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金51172110

在线出版日期：2013-04-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：1-2,43