10.3969/j.issn.1001-9677.2012.05.030
反应溅射条件对WO_3薄膜光电性能的影响与探索
使用反应溅射法在FTO导电玻璃基底上制备了附着力强、表面光滑、均匀的WO3光电薄膜,系统地研究了氩气与氧气流量比和溅射功率对该薄膜光电性能的影响。通过XRD、AFM、Mott-Schottky（M-S）分别分析薄膜的物相、形貌、光电性质。光电转化效率（IPCE）测试表明：当氩氧流量比为2和溅射功率250 W时,WO3薄膜的光电性能最好。该薄膜在400 nm波长处的IPCE值高达40%。
WO3、薄膜、反应溅射、水解制氢、光电转化效率(IPCE)
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N34(分析研究、测试与鉴定)
科技部863“太阳能水解制氢技术的研究与探索”2006AA05Z102;教育部重大培育项目“α-Fe2O3薄膜光解水制氢特性的研究”No.707050 教育部博士点基金20110181110003;成都市科技局攻关计划Nos.10GGYB380GX-023 10GGYB828GX-023 成都市科技局重点项目“氧化铁薄膜太阳能水解制氢技术研究”07GGZD139GX-026
2012-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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