薄膜厚度对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响

摘要：

采用直流磁控溅射技术,以氧化锌铝陶瓷靶为靶材,在玻璃衬底上制备了ZnO：Al（ZAO）薄膜样品。在其他参数不变的情况下,由不同溅射时间得到了不同厚度的薄膜,研究了薄膜的结构性质、电学和光学性质随薄膜厚度的变化关系。实验结果表明：在薄膜厚度为500 nm时,ZAO薄膜具有最优化的光电性能,电阻率为1.68×10-3Ω.cm,可见光区平均透射率为90.3%。

关键词：ZAO薄膜、薄膜厚度、电学性能、光学性能

所属期刊栏目：39

分类号：O484.5(固体物理学)

资助基金：湖南省教育厅资助科研项目09C321

在线出版日期：2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：56-58