10.3969/j.issn.1009-2455.2004.04.014
三氧化钨的光催化氧化性能研究
以草浆造纸废水为研究对象,对半导体WO3光催化氧化的性能进行了研究,结果表明,当废水的ρ(CODCr)为903 mg/L时,在pH=8.08,WO3用量为0.01g/10 mL水样,H2O2(30%)与废水的体积比为4%的条件下,用UV光照射6 h,废水的CODCr的去除率达94.46%,出水ρ(CODCr)为50mg/L.
造纸废水、废水处理、光催化氧化、三氧化钨
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X793(轻工业废物处理与综合利用)
2004-09-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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