三氧化钨的光催化氧化性能研究
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1009-2455.2004.04.014

三氧化钨的光催化氧化性能研究

引用
以草浆造纸废水为研究对象,对半导体WO3光催化氧化的性能进行了研究,结果表明,当废水的ρ(CODCr)为903 mg/L时,在pH=8.08,WO3用量为0.01g/10 mL水样,H2O2(30%)与废水的体积比为4%的条件下,用UV光照射6 h,废水的CODCr的去除率达94.46%,出水ρ(CODCr)为50mg/L.

造纸废水、废水处理、光催化氧化、三氧化钨

35

X793(轻工业废物处理与综合利用)

2004-09-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

45-48

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

工业用水与废水

1009-2455

34-1204/TQ

35

2004,35(4)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn