1064nm激光对氧化铟锡薄膜的损伤研究

摘要：

液晶光学器件在激光光束精密控制上具有重要应用前景，氧化铟锡（IT0）薄膜作为液晶光学器件的透明导电电极，是液晶器件激光损伤的薄弱环节。为此，建立了ITO薄膜激光热损伤物理模型。理论计算结果表明：1064nm激光对ITO薄膜的损伤主要为热应力损伤；连续激光辐照下，薄膜损伤始于靠近界面的玻璃基底内；脉冲激光辐照下，温升主要发生在光斑范围内的膜层，薄膜损伤从表面开始。利用泵浦探测技术，研究了ITO薄膜的损伤情况，测量了不同功率密度激光辐照后薄膜的方块电阻，结合1-on-1法测定了ITO薄膜的50％损伤几率阈值。实验结果表明：薄膜越厚，方块电阻越小，激光损伤阈值越低；薄膜未完全损伤前，方块电阻随激光功率密度的增加而增大。理论计算与实验结果吻合较好。设计液晶光学器件中的ITO薄膜电极厚度时，应综合考虑激光损伤、透光率及薄膜电阻的影响。

关键词：激光辐照、液晶光学器件、损伤阈值、氧化铟锡薄膜

所属期刊栏目：26

分类号：O434;O484(光学)

在线出版日期：2012-04-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：107-112