纳米SiO2形成柯石英的p-T相图

摘要：

使用纳米SiO2粉体为原料,在2.0～4.2GPa、150～1200℃范围内进行了一系列的高压高温实验研究,得到了该压力温度范围内晶化产物α-石英与柯石英的p-T相图,而且该相图中的相边界在650℃以下斜率为负,在650℃以上基本水平.通过X射线衍射仪(XRD)、Raman光谱仪(Raman)、傅立叶红外光谱仪(FT-IR)、DSC-TGA差热分析仪(TG-DTA)等表征手段,发现纳米SiO2原粉中水分(包含Si-OH和吸附水)的存在能显著降低合成柯石英的温度和时间,在4.2GPa压力下得到了目前合成柯石英的最低温度190℃.常压下,合成的柯石英在800℃以下能够稳定存在,在1000℃以上转化为α-方石英.

关键词：纳米二氧化硅、α-石英、柯石英、高压高温、硅羟基

所属期刊栏目：23

分类号：O521.2(高压与高温物理学)

资助基金：国家自然科学基金30370406,10374022,10674034

在线出版日期：2009-05-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：9-16