10.3969/j.issn.1000-5773.2003.04.012
氮化碳薄膜的制备及研究现状
氮化碳具有良好的物理、化学性质和广泛的应用前景.目前主要采用化学气相沉积法、离子束溅射法、激光等离子体沉积和激光烧蚀、离子镀、离子注入法等制备方法.文中对氮化碳的结构、性质、制备、性能表征以及研究现状进行了比较详细的介绍.
氮化碳薄膜、制备、性能表征
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TB43(工业通用技术与设备)
国家自然科学基金10125522,10075064;中国科学院"西部之光"人才培养计划
2004-02-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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