气氛对降膜介质阻挡放电反应器降解甲基橙的影响
以偶氮染料甲基橙为对象,研究使用降膜介质阻挡放电(DBD)反应器在不同放电气体(氩气、空气、氧气)下的处理效果.结果表明:氧气作DBD放电气氛时,甲基橙处理效果最佳,氩气次之,空气最差.O3、H2O2、·OH这3种活性氧粒子对于甲基橙氧化降解起着至关重要的作用,氧气放电体系内3种活性粒子的含量远高于空气放电体系;氩气放电体系内的H2O2含量最高;空气放电体系还检测到大量的对甲基橙降解不利的NO3-、NO2-.
介质阻挡放电、等离子体、气氛、活性氧粒子、染料废水
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X703.1(一般性问题)
国家重点研发计划2016YFB0600701;石家庄市重大科技专项176240857A
2018-12-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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