10.3969/j.issn.1008-1143.2024.01.006
缺陷ZnO纳米阵列的制备及其光降解性能
以硝酸锌和氨水为反应原料,采用无种层低温溶液法制备ZnO纳米阵列,进一步通过硼氢化钠还原法制备缺陷ZnO纳米阵列.通过SEM、XRD、UV-Vis DRS和IR等方法对缺陷ZnO纳米阵列的结构和组成进行分析.探讨硼氢化钠浓度、还原反应温度及时间对缺陷ZnO纳米阵列光降解性能的影响.结果表明,所制备的ZnO纳米阵列紧密排列于不锈钢网表面,具有缺陷的ZnO阵列形貌未发生改变,仍为六边形柱状,直径约(0.5~1)μm.光催化实验表明,在1 M硼氢化钠溶液,还原反应温度50℃,还原反应时间12 h条件下,制备的缺陷ZnO纳米阵列性能最佳,对亚甲基蓝的降解率高达95.9%,相比较纯ZnO降解率提高了44个百分点.另外,缺陷ZnO纳米阵列对氧氟沙星、诺氟沙星及环丙沙星也表现出了较强的降解性能.
催化剂工程、缺陷结构、ZnO纳米阵列、光催化降解
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TQ426.6;O643.36
陕西省大学生创新创业训练计划项目;商洛学院博士科研启动项目;陕西省青年创新团队科研计划项目;商洛学院科研资助项目
2024-02-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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