一种基于Ni80Cr20薄膜的高精度中性密度滤光片的制备方法

摘要：

Ni80Cr20合金薄膜在可见光波段展现出很好的光学中性度.真空镀膜系统中石英晶振膜厚传感器的测量误差是导致薄膜的实际光密度值偏离设定值的主要原因.为此,提出了一种提高中性密度滤光片光密度值精度的制备方法,即采用真空镀膜结合离子束蚀刻技术,通过对镀膜和蚀刻参数的精确控制,实现对薄膜厚度的精密调控,将光密度值的相对误差控制在±2％以内,绝对误差不超过±0.01,使得薄膜的厚度调控量处于原子层尺度,满足了滤光片在高精度要求下光谱系统中的使用要求.同时验证了中性密度滤光片在离子束蚀刻微量减薄后,依旧拥有良好的光学性能和表面平整度,使得离子束轰击蚀刻薄膜技术成为一种新的且可靠的薄膜厚度微量调控方法.

关键词：中性密度滤光片;Ni80Cr20;光密度;离子束蚀刻

所属期刊栏目：43

分类号：TN253(光电子技术、激光技术)

资助基金：上海市自然科学基金项目19ZR1436100

在线出版日期：2021-12-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：70-76