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10.3969/j.issn.1005-5630.2006.03.017

微光学自适应技术中基于PZT薄膜的微反射镜工艺研究

引用
介绍了微光学自适应技术中基于PZT(PbZrxTi1-xO3)薄膜的微反射镜单元及其制作工艺.该制作过程中用重掺杂硅片作为基底和下电极,采用了钛酸丁脂[(C4H9O)4Ti]、乙酸铅[Pb(CH3COO2)·3H2O]以及异丙醇锆[Zr(OCH(CH3)24·(CH3)2CHOH]为原料,通过溶胶-凝胶法(sol-gel)制作薄膜,薄膜厚度为纳米级.制成的PZT薄膜通过逆压电效应产生形变,对反射镜面局部进行微调,实现波前位相控制.

自适应光学、微反射镜、PZT薄膜、逆压电效应

28

TB43(工业通用技术与设备)

2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

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光学仪器

1005-5630

31-1504/TH

28

2006,28(3)

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