防辐射非制冷红外二次成像光学系统设计

摘要：

为解决在高辐射环境中使用的红外热像仪,由于辐射导致其性能退化迅速的技术问题,采用二次成像两档变倍光学系统进行"L"型折叠的结构形式,设计了焦距为30/120 mm的非制冷红外双视场成像光学系统.其工作波段为8～12μm,光学系统F数为1.1.设计结果表明,该系统结构简单紧凑、体积小、成像良好,在探测器对应的特征频率30 lp/mm处的MTF值大于0.4,满足应用需求.

关键词：光学设计、防辐射、非制冷红外、双视场光学系统、二次成像

所属期刊栏目：18

分类号：O439;TH74(光学)

在线出版日期：2021-02-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：60-65