低损耗1080nm高功率激光高反膜元件的研制

摘要：

针对1 080 nm连续激光光学系统中反射镜的需求,设计了低损耗高反膜膜系,优化了膜系中的电场分布,对高反膜元件工艺体系进行了控制.采用离子束溅射工艺,成功地在超光滑石英玻璃基底上研制出了Ta2Os/SiO2体系高反膜,对所获得的高反膜元件表面粗糙度、光学性能及抗激光损伤能力进行了讨论与分析.结果 表明:研制的低损耗1 080 nm高功率激光高反膜元件表面粗糙度达到0.115 nm,在1 064nm处吸收和散射损耗之和约17ppm,可承受500 kW/cm2的激光辐照而不损伤,工艺技术应用前景良好.

关键词：高功率激光、低损耗、反射膜、离子束溅射、五氧化二钽、二氧化硅

所属期刊栏目：17

分类号：O484.1+1(固体物理学)

在线出版日期：2019-09-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：97-102