基于互强度傅里叶分析的光刻机成像模拟方法

摘要：

光刻空间像仿真作为各种计算光刻技术的基础,受到越来越多的重视.提出一种基于互强度傅里叶分析的光刻机投影成像快速模拟方法,从光刻成像互强度传播过程入手,基于傅里叶光学原理对成像要素进行多次空域-频域变换,得到一种快捷的空间像模拟途径.通过与标准解析空间像对比,发现该方法的计算精度可达10-4(最大光强归一化).该方法避免了部分相干成像的Hopkins方程中繁琐的积分运算,操作性强、计算精度高.该方法适用于各种灵活多变的曝光成像条件,具备广阔的工程应用前景.

关键词：部分相干成像、光刻机、空间像、傅里叶光学、仿真计算

所属期刊栏目：13

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金51405172资助项目

在线出版日期：2015-05-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：87-90,94