低水峰光纤预制棒的工艺研究
低水峰光纤预制棒通常采用全合成法工艺来制备.从气相轴向沉积法(V AD)沉积、粉末棒脱羟、芯棒热处理等方面对该工艺进行了讨论.通过合理控制芯棒的d/a值、粉末棒密度以及优化粉末棒脱羟与芯棒酸蚀工艺等,可有效消除由低水峰光纤预制棒拉制的G.652D光纤在1 383 nm波长处的水峰,使其满足密集型光波复用技术(DWDM)的运行需求,从而提高网络容量与传输速率.
全波光纤、VAD法、粉末棒密度、脱羟、酸蚀
TN818(无线电设备、电信设备)
2016-03-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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