大尺寸高性能X射线双通道多层膜反射镜研制

摘要：

为满足同步辐射装置中X射线单色器的需求,在直线式磁控溅射设备上制备了W/Si和Ru/C双通道多层膜反射镜.制备的W/Si多层膜和Ru/C多层膜的周期厚度均为3 nm,平均界面宽度分别为0.30 nm和0.32 nm.在320 mm长度范围和20 mm宽度范围内,W/Si多层膜膜厚误差的均方根值分别为0.30％和0.19％,Ru/C多层膜膜厚误差的均方根值分别为0.39％和0.20％.对制备的样品进行了表面形貌测试和非镜面散射测试,对比了W/Si多层膜和Ru/C多层膜的表面和界面粗糙度大小.硬X射线反射率测试结果表明,W/Si多层膜和Ru/C多层膜在8.04 keV能量点处的一级布拉格峰测试反射率分别为63％和62％,角分辨率均为2.6％.基于以上研究,在尺寸为350 mm×60 mm的高精度Si平面镜表面镀制了W/Si和Ru/C双通道多层膜,并且其被成功应用于上海同步辐射光源线站中.

关键词：X射线光学、双通道多层膜、磁控溅射、均匀性、反射率

所属期刊栏目：43

分类号：O434.1(光学)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金

在线出版日期：2023-03-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：265-273