压电陶瓷锁焦性能对光刻曝光均匀性的影响

摘要：

在激光直写光刻系统中,锁焦性能是影响光刻系统曝光均匀性的关键因素之一.研究了压电陶瓷作为光刻系统中的锁焦执行器时的动态响应特性,并对其在极坐标光刻系统中对曝光均匀性的影响作了探索.在探索过程中,发现了压电陶瓷对一般非简谐信号的动态响应结果和其对特征简谐信号的动态响应结果之间的非线性关系,并通过样品曝光实验验证了这个非线性关系的正确性.利用该非线性关系量化计算出了使用该压电陶瓷能够满足锁焦要求的旋转台最高的工作转速,同时指导压电陶瓷生产商针对性地优化了适合本极坐标光刻系统的压电陶瓷的动态响应特性,优化后的压电陶瓷的锁焦能力提高了 125.2％.

关键词：激光光学、激光直写、像散法、压电陶瓷、离焦量检测

所属期刊栏目：42

分类号：TE952;TN305.7;TN2

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;上海市集成电路重大科技项目

在线出版日期：2022-11-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共12页

页码：99-110