高通量激光纳米直写技术

摘要：

激光直写技术因具有灵活的三维微纳结构加工制造能力,在工业以及各个科学领域中得到广泛应用,但要进入亚100 nm乃至亚50 nm尺度,实现高通量的三维纳米制造还是当前的技术难题.而这在后摩尔时代光电混合集成与多层堆叠集成高度发展的今天显得极为重要.从光学成像的角度,这个问题的核心就是要获得大视场和高分辨信息,即信息带宽积的最大化,在激光直写技术中,就是要实现高通量和高分辨刻写.本文将论述激光直写技术的发展,介绍本课题组在高通量激光纳米直写方向的研究进展.

关键词：激光器、光刻、激光物质相互作用、微纳制备

所属期刊栏目：42

分类号：O436;TH74(光学)

资助基金：国家重点研发计划2021YFB2802200

在线出版日期：2022-11-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：294-302