面向高反光区域的自适应结构光

摘要：

在结构光三维成像中,待测场景的高反光区域会在相机成像阵列上出现饱和,这会影响相移法结构光的相位准确度.针对这一问题,提出一种自适应相移结构光测量方法.首先,投射若干幅均匀灰度图像,并检测高反光区域和饱和程度,逐像素点确定最优投影光强.然后,根据目标特性降低投影强度实现坐标映射,生成一组高动态范围的自适应调制条纹.最后,对于饱和程度较大的区域,结合坐标映射的相位进行相位融合.实验结果表明,相比于传统方法,所提方法能够更加准确地对投影光强进行调整,相位的最大均方根误差(RMSE)和饱和区域RMSE分别减小了99.43％和92.48％,有效地提高了高反光区域的形貌测量精度.

关键词：测量、光强饱和、相移结构光、最优投影光强、自适应条纹、相位融合

所属期刊栏目：42

分类号：TN247(光电子技术、激光技术)

资助基金：四川省科技厅重点研发项目;四川省科技厅重点研发项目;四川大学理科特色方向培育计划

在线出版日期：2022-09-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：107-115