基于超精密激光直写系统制作二维光栅

摘要：

二维光栅是光刻机光栅尺系统的核心元件.搭建了超精密激光直写系统,基于二维超精密工件台,通过旋转基片90°进行两次曝光,制作出栅线密度为1200 line/mm的二维光栅掩模.原子力显微镜和扫描电镜结果表明,所制作的掩模轮廓清晰,空间分布均匀.实验结果证明了超精密激光直写系统能够制作出二维光栅掩模,在制作大尺寸、高精度二维计量光栅方面有着广阔的应用前景.

关键词：光栅、超精密系统、激光直写、栅距测量

所属期刊栏目：39

分类号：O436(光学)

资助基金：中国科学院前沿科学重点研究计划项目QYZDJ-SSW-JSC014

在线出版日期：2019-11-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：30-38