ZnO:W透明导电薄膜的调制生长与表面氢化处理

摘要：

采用射频磁控溅射法,在不同溅射功率下沉积ZnO:W薄膜层55 min,然后通人体积分数为5％的氢气,并保持溅射参数不变,表面氢化处理8 min,获得了表面具有绒面结构的ZnO:W透明导电薄膜.对样品的显微形貌、结构和表面绒度等性能进行了测试与分析,结果表明:在200 W的溅射功率条件下,氢化处理8 min获得的ZnO:W样品表面绒度达到92.82,同时具备优异的导电性能(电阻率均值3.93X10-4 Ω·cm).这种表面绒面结构有望进一步提高ZnO透明导电电极电池的转换效率.

关键词：薄膜、ZnO:W透明导电薄膜、磁控溅射、氢化处理、绒度结构、陷光效应

所属期刊栏目：38

分类号：TN204(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金;江西省科技厅自然科学重点项目;江西省科技厅自然科学重点项目;江西省科技厅自然科学重点项目;江西省教育厅自然科学项目

在线出版日期：2018-08-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：353-358