扫描干涉场曝光中光栅掩模槽形轮廓的预测

摘要：

根据扫描干涉场曝光的特点,针对光刻胶层内曝光量的驻波效应,建立了动态曝光模型.基于快速推进法建立了显影模型,得到了光栅掩模槽形的演变规律.为减弱驻波效应的影响,提出了一种抗反射层最优厚度的设计方法.仿真结果表明,建立的曝光和显影模型能有效预测光栅掩模的槽形轮廓,同时可优化抗反射膜的厚度.

关键词：光栅、扫描干涉场曝光、曝光模型、显影模型、快速推进法、驻波效应

所属期刊栏目：38

分类号：O436.1(光学)

资助基金：国家科技重大专项2012ZX02702-006

在线出版日期：2018-08-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：28-34