退火时间对AZO薄膜结构及光学性质的影响

摘要：

采用直流磁控溅射方法,以K9玻璃为衬底制备掺铝氧化锌(ZnO:Al,AZO)薄膜.在300℃真空条件下对样品进行退火处理,研究不同退火时间对薄膜内部微观结构、表面形貌及光学特性的影响.结果表明,最佳退火时间为2h,此条件下的AZO薄膜具有较强的(002)衍射峰,晶粒尺寸为17.2 nm,表面结构平整致密,紫外-可见波段的平均透射率为93.47％,光学带隙为3.41 eV.

关键词：薄膜、AZO薄膜、磁控溅射、微观结构、表面形貌、紫外-可见透射

所属期刊栏目：35

分类号：O436(光学)

在线出版日期：2015-09-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：423-428