极紫外光刻物镜补偿器的选择及定位精度分析

摘要：

极紫外(EUV)光刻物镜设计不仅要在系统优化阶段尽可能减小残余像差,还必须选择像质补偿器合理分配各项公差,从而在保证系统可制造性的前提下实现预期性能.针对一套数值孔径0.33的极紫外光刻物镜,进行了补偿器的优选和定位精度分析.根据结构参量对系统波像差的灵敏度并结合各结构参量之间的相关性选择了6个像质补偿器,并分析了非补偿器结构参量的公差.在此基础上,提出了基于蒙特卡罗法的补偿器定位精度分析方法.利用蒙特卡罗法模拟实际装调过程,通过分析补偿器定位精度对像质的影响,确定满足统计像质要求的补偿器定位精度.结果显示,当物镜系统最严间隔公差、偏心公差、倾斜公差分别在±2 μm、±3μm、±5μrad范围内,间隔和偏心补偿器的定位精度为±0.1 p,m时,系统波像差均方根(RMS)值在97.7％的置信概率下小于1nm.

关键词：光学设计、公差分析、补偿器、反射系统、极紫外光刻

所属期刊栏目：35

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家科技重大专项2012ZX02702001-002

在线出版日期：2016-01-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：142-148