超大口径光学制造的静压支撑系统集成与控制
在超大口径光学制造中,镜体背部空间狭小,转台承载能力有限,要求光学制造的支撑结构尽量简单;镜体承受加工载荷且弥漫加工磨料,要求支撑系统对加工载荷和环境不敏感;此外,为便于在线检测,缩短检测周期,还要求支撑系统具有较高的调整精度和稳定性.设计了一种均力型静压支撑系统,先测试了单个支撑的均力性及刚度,预测了压印效应的大小;随后阐述了支撑系统的控制方法;最后实现了系统集成及其图形用户界面(GUI)界面操作.将该系统用于2m SiC反射镜的光学加工,可将压印效应均方根(RMS)值控制到13.1 nm≈A/48,满足加工需要;用于立式检测,系统对镜体倾斜和俯仰角可监测到的角度范围为0.34″～0.48°,以及沿Z方向±5 mm的运动;对应曲率中心在XY平面的调节范围dR最大值50 mm,最小值为10 μm,与电荷耦合器件(CCD)像元尺寸接近,满足立式检测需要.对目前具有重大需求的2～4 m量级反射镜而言,该系统具有较好的适用性.
光学制造、均力静压支撑、调整精度、超大口径反射镜、在线加工检测
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O439;TH161+.14(光学)
国家重点基础研究发展计划（973计划）;国家自然科学基金
2015-09-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
248-256
