极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征

摘要：

极紫外(EUV)反射镜在使用过程中的氧化及表面碳污染沉积,严重影响了极紫外光刻(EUVL)技术的工业应用.为了延长EUV反射镜的稳定性与使用寿命,一般采取在Mo/Si多层膜表面添加保护层.采用直流反应磁控溅射技术,建立氧气流量与溅射电压之间的“迟滞回线”关系,进而准确掌握不同氧化物保护层所需氧气量,以此减少过多的活性氧对下层Mo/Si多层膜的影响,提高镜面的反射率.选用RuO2与TiO2两种保护层材料进行比较,根据充氧量的不同,分析不同反应阶段的薄膜特性.针对催化性和物理稳定性更好的TiO2薄膜,在晶相、表面粗糙度、截面均匀性和化学组分等方面给予评价.研制出膜质致密均匀的非晶态TiO2薄膜,其表面粗糙度优于100 pm;TiO2纯度(质量分数)达97.2％;保护层厚度为2 nm的Mo/Si多层膜的反射率损失小于5％,满足EUV外多层膜的基本要求.

关键词：薄膜、极紫外保护层、直流反应磁控溅射、迟滞回线

所属期刊栏目：35

分类号：O484.5(固体物理学)

资助基金：国家科技重大专项

在线出版日期：2015-05-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：403-410