基于自发辐射抑制的红外光机系统优化设计
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3788/AOS201535.0322003

基于自发辐射抑制的红外光机系统优化设计

引用
低背景探测的红外光机系统,目标信号很弱,系统自发辐射影响很大.指出了考虑系统自发辐射抑制的红外光机系统优化设计方法.从有效发射率和等效黑体辐射温度两方面比较了折反、同轴全反和离轴全反结构在自发辐射抑制方面的优劣,发现全反系统优于折反系统,离轴全反系统最优;从等效黑体辐射温度的变化,介绍了光机系统工作波段优化、结构优化设计和构件表面优化处理,发现甚长波探测在低背景下具有明显优势、光机结构表面高反和发黑合理布局效果更好;分析了制冷对光机系统抑制自发辐射的作用,发现制冷对自发辐射抑制作用明显,但制冷温度越低,效率越差,采取局部关键面制冷效果显著.

光学设计、自发辐射、等效发射率、等效黑体辐射温度、甚长波、制冷

35

TN202(光电子技术、激光技术)

2015-05-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

278-285

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

光学学报

0253-2239

31-1252/O4

35

2015,35(3)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn