基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法

摘要：

随着光刻机分辨力节点的提高,纳米级的高精度检焦技术变得愈发重要.针对投影光刻的特点,介绍了一种基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法.此方法基于三角法测量原理,通过光弹调制器和横向剪切板的光学调制、平行平板的相位调整,硅片位移的变化会引起调制光强发生正余弦变化.根据光强的正余弦变化,求出焦面位移量.经实验与数据分析,该方法具有纳米级的检焦精度,且具有实时性强、非接触等特点,能满足100 nm投影光刻中焦面检测的需要.

关键词：测量、纳米检焦、相位解析、光弹调制、横向剪切板

所属期刊栏目：35

分类号：O436(光学)

资助基金：国家自然科学基金61376110

在线出版日期：2015-03-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：194-199