基于光孔阵列的集成成像三维显示方法

摘要：

集成成像较小的再现深度一直都限制着集成成像的发展和应用,针对此问题提出了一种增大集成成像再现深度的方法.该方法在微透镜阵列与显示屏之间附加一个光孔阵列,利用光孔阵列限制显示屏上像素发出光线的发散角,从而有效地增大集成成像的再现深度.对集成成像的再现原理进行了深入分析,讨论了光孔直径与集成成像再现深度的关系.采用ASAP光学模拟软件对所提方法和传统方法进行了模拟对比实验,实验结果显示当光孔直径占透镜元节距的64％时,所提方法的再现深度是传统集成成像再现深度的1.5倍,实验结果验证了理论推导的正确性.

关键词：成像系统、再现深度、光孔阵列、微透镜阵列、三维显示

所属期刊栏目：34

分类号：TN141(真空电子技术)

资助基金：国家863计划2012AA011901,2012AA03A301、四川省科技计划2013GZ0018,2013TD0002

在线出版日期：2014-10-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：110-114