极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用

摘要：

极紫外光刻投影系统中高反膜厚度一般约300 nm,远大于13.5 nm的工作波长,光能并不能完全穿透膜层入射到基底,从而引入数倍于波长的额外光程差,降低系统成像质量.从能量调制的角度提出了一种基于能量守恒定律的多层膜等效工作界面模型,将光学薄膜中复杂的物理光学过程等效地转换为简单直观的几何光学过程,获取可被常用光学设计软件识别的数据,进而实现对有膜光学系统的分析.利用该模型对不同系统进行了分析优化,获得了一套可实现衍射受限成像的有膜系统方案,证明了基于能量守恒的等效工作界面的有效性,指导后续系统的装调,为多次反射系统的分析提供了一种方法.

关键词：成像系统、光学设计、极紫外光刻、等效工作界面、多层膜、能量守恒

所属期刊栏目：34

分类号：O436(光学)

资助基金：国家科技重大专项2008ZX02501

在线出版日期：2014-09-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：135-142