实际高数值孔径光刻系统的偏振分析

摘要：

在光学系统偏振传输理论的基础上,对一高数值孔径(NA)的透射式光刻系统进行了偏振分析,分析中考虑了系统的实际特性——现有工艺水平可制备的增透膜、薄膜和基底材料的吸收作用以及偏振照明,以增加分析结果的可靠性.通过计算系统各光学界面的透射率、反射率、吸收率及二次衰减值等偏振参数,得到镀膜、吸收作用以及不同偏振照明对系统传输性能和成像性能的影响.结果表明镀膜能有效提高该光刻系统的性能及稳定性,并可以将不同偏振照明对该系统性能的影响减小至可忽略的水平;同时,显著的基底吸收作用是该系统能量损失的主因,但吸收引入的偏振作用相对总体而言较小.

关键词：光学设计、投影光刻、偏振分析、高数值孔径、实际系统、增透膜

所属期刊栏目：33

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：应用光学国家重点实验室开放基金Y1Q03FQK09

在线出版日期：2013-12-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：205-212