掩模衍射频谱轴向分量对光刻成像性能的影响

摘要：

传统三维光刻矢量成像模型中将投影系统物方电磁场表示为二维形式,实现方式分为两种:采用局部坐标和忽略掩模衍射频谱的轴向分量.后者在浸没式光刻系统仿真中的适用性需要进一步分析.简述了忽略掩模频谱轴向分量的矢量成像模型和引入该分量的全光路三维光刻矢量成像模型,利用这两种模型和商业仿真软件,研究了掩模衍射频谱轴向分量对光刻胶中成像特征尺寸的影响并对结果进行了讨论.研究结果表明,相干照明和部分相干照明条件下,掩模衍射频谱轴向分量对光刻成像的影响随着数值孔径的变化趋势存在较大差异.这说明相干照明下的分析结论并不适用于部分相干照明条件,且只有全光路三维矢量成像模型才能满足浸没式高分辨光刻仿真的要求.

关键词：成像系统、物理光学、浸没式光刻、矢量成像模型、衍射频谱

所属期刊栏目：33

分类号：O439(光学)

资助基金：国家自然科学基金60938003;国家科技重大专项2012ZX02701001-005

在线出版日期：2013-12-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：69-75