16～22 nm极紫外光刻物镜工程化设计

摘要：

极紫外光刻是16～22 nm光刻技术节点的候选技术之一,其投影物镜设计需在满足像质和分辨率要求的前提下,兼顾工程可实现性.在考虑加工、检测和制造约束的情况下,设计了像方数值孔径分别为0.3和0.32、曝光视场为26 mm×1.5 mm的极紫外光刻投影物镜.详细分析和比较了两套物镜的光学性能和可制造性.结果表明,两套物镜结合分辨率增强技术可分别满足22 nm和16 nm光刻技术节点的性能要求.

关键词：光学设计、投影物镜、反射系统、极紫外光刻

所属期刊栏目：33

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家科技重大专项2012ZX02702001-002

在线出版日期：2013-10-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：249-256