单模共振干涉光刻曝光显影模拟研究
针对纳米光栅的加工需求,提出一种以柱形光栅耦合结构为基础的单模共振干涉光刻方法.该方法以柱形光栅耦合结构为掩模,结合光刻胶和基底层形成介质波导,入射光经过光栅衍射后以特定衍射级次(±1级)进入光刻胶形成干涉条纹,光刻胶作为波导层,可将入射光光强增强25~50倍,从而大大提高了光能利用率.采用441 nm的入射光,通过模拟计算,可以得到周期小于λ/3、凹槽宽度为42~88 nm(λ/10~λ/5)的纳米结构.
光栅、介质波导、单模共振干涉、光刻
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O436.1(光学)
国家自然科学基金61078047资助课题
2013-07-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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