高光谱像面干涉的近场成像机理研究

摘要：

像面干涉成像光谱技术具有高光通量、高目标分辨率、高光谱分辨率等优点,主要应用于遥感光谱成像领域.为实现近场目标的探测,对近场像面干涉成像进行了理论分析,研究了成像质量的影响因素,计算了干涉光程差和最小可探测距离.研究了近场干涉图像中条纹调制度的影响因素,推导了调制度的物理表达式,并分析了干涉条纹调制度对信噪比以及复原光谱准确度的影响.为提高近场干涉图像的调制度和成像质量,提出了一种基于二次成像的像面干涉成像光谱方法.搭建了像面干涉成像光谱的实验装置,对近场目标进行了探测,并对获取的干涉图像进行了分析；利用二次成像的像面干涉成像光谱方法,对近场目标进行干涉成像实验,获取了调制度较高的近场干涉图像.

关键词：光谱学、像面干涉、近场探测、调制度

所属期刊栏目：33

分类号：O433(光学)

资助基金：国家自然科学基金61205016,U1231112资助课题

在线出版日期：2013-04-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：248-257