叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析

摘要：

光刻对准中,一般将硅片和掩模对准标记制作成周期接近的光栅,通过光栅标记叠加形成的叠栅条纹的相位信息,探测掩模和硅片的相对位置关系.在实际的应用中,叠栅条纹的方向不仅与对准标记的几何位置有关,而且还与CCD的位置有关.为了将叠栅条纹的光刻对准方法推向实际应用,从矩形光栅到叠栅条纹,分析了一般光栅的相位分布规律.根据叠栅条纹相位特性分析了掩模、基片和CCD的几何位置对对准精度的影响；建立了实际对准偏差与理论值的数学关系模型.研究表明,没有角位移的情况下,当位移值小于0.4 pixel时,理论上最大对准误差低于0.002 pixel.

关键词：测量、光刻对准、角位移、叠栅条纹、相位分析

所属期刊栏目：32

分类号：O436.1(光学)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金

在线出版日期：2012-12-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：108-115