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10.3788/AOS201232.0231001

真空紫外波段铝反射膜制备

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为制备出在130~210 nm波段具有良好光谱性能的铝反射膜,优化设计了铝反射镜中铝层和保护层氟化镁的厚度,理论确定铝层和氟化镁保护层最佳厚度分别为80 nm和33 nm.采用热舟蒸发工艺,在BK7基片上制备了Al反射膜样品,获得了130~210 nm波长范围内反射率均大于80%的金属铝膜.研究了铝层沉积速率和紫外辐照处理对薄膜性能的影响,并考察了铝膜光谱性能的时效性.结果表明铝层沉积速率越快,制备的铝膜反射率越高;合理地存放铝膜元件,可以长时间内保持铝膜的光谱性能.适当的紫外辐照处理能进一步提高铝膜在真空紫外波段的反射率.

薄膜、铝反射膜、蒸发速率、真空紫外、时效性、紫外辐照

32

O484.41(固体物理学)

2012-04-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

320-324

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