制冷型红外焦平面系统冷反射效应的分析与控制

摘要：

利用光学不变量对焦平面系统进行近轴分析,得到了量化焦平面系统冷反射集中程度和变化率的两个一阶参量.以热辐射理论为基础,推导并总结了冷反射引入温差(NITD)和成像系统参数及环境参数的关系式.以焦距为90 mm,视场角4°,F数2.75的中波焦平面成像系统为例,在CODE V软件中对其冷反射效应进行了定量分析,并以一阶参量为约束,实光线追迹辅助验证的方式进行了冷反射优化,优化后光学系统的冷反射降低了70％.在杂光分析软件(ASAP)中根据系统的实际参数对冷反射分布进行了模拟,结果表明对冷反射进行优化控制后,系统的NITD减小到了预设值之下,冷反射效应得到了很好的控制.

关键词：光学设计、冷反射、焦平面、光线追迹、红外系统

所属期刊栏目：32

分类号：TN216(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2012-04-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：274-280