基于三维光学模型的彩色滤光膜硅覆液晶微显示器的性能优化
应用彩色滤光膜硅覆液晶(CF-LCoS)微显示器件的三维光学模型对CF-LCoS的性能进行优化.通过改变像素排列结构、液晶取向层的摩擦结构以及液晶器件模式等条件优化侧向电场效应,抑制彩色漏光现象.通过优化,像素尺寸为15 μm的CF-LCoS微显示器件,其色纯度可以达到美国国家电舰系统委员会(NTSC)色域范围的63%.结果表明,基于三维光学模型的CF-LCoS微显示器件的性能优化可以有效抑制侧向电场效应诱导产生的彩色漏光现象,大幅提升器件的色纯度参数.
视觉光学、彩色滤光膜、硅覆液晶、微显示、三维、光学建模、优化
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O436(光学)
天津科技大学引进人才基金922610001001
2012-04-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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