光度法确定LaF3薄膜光学常数

摘要：

为了满足设计和生产多层膜系时精确确定薄膜材料光学常数的需要,建立一种基于透射率光谱包络来获取弱吸收光学薄膜光学常数的均匀模型.为消除基底背面反射对光学薄膜光谱性能测量的影响,给出一种非破坏性的薄膜光学特性校正方法,校正实测光谱数据获得光学薄膜的单面光谱,并给出确定基底光学常数的方法.研究钼舟热蒸发工艺制备的沉积在CaF2基底上的LaF3薄膜样品,并获得了刚沉积的和紫外照射处理40 min后的LaF3薄膜以及CaF2基底在160～340 nm的光学常数.结果表明,紫外照射处理可以提高LaF3薄膜的光学特性(增加折射率和降低消光系数),并降低LaF3薄膜的物理厚度.

关键词：薄膜、光学常数、分光光度法、LaF3、紫外照射处理

所属期刊栏目：31

分类号：O484.41(固体物理学)

在线出版日期：2012-01-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：269-275