Ce3+注入掺杂金刚石薄膜蓝区电致发光研究
采用微波等离子体化学气相沉积设备在高掺杂硅衬底上沉积了一层金刚石薄膜,然后采用离子注入法在金刚石薄膜中注入不同剂量的Ce3+,从而制备出了Ce3+掺杂的金刚石薄膜.研究了其电致发光特性,得到了发光主峰位于蓝区(476 nm和435 nm处)的光发射.实验中发现随着Ce3+注入剂量的增加,电致发光强度也随之增加.
薄膜、掺杂金刚石薄膜、电致发光、Ce3+注入、化学气相沉积
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O613.71(无机化学)
上海市人才发展基金;上海市教育发展基金;上海高等教育内涵建设工程工程项目
2011-06-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
290-293