射流抛光误差分析与材料去除稳定性研究

摘要：

研究了射流抛光材料去除面形不呈理想的对称形和重复抛光材料去除量的波动不稳性,分析认为射流抛光过程稳定性和误差因素会影响材料去除的不稳定性.分析了射流系统的误差影响因素,其主要由压力波动、磨粒沉降作用和流体的紊动作用等部分组成,并研究了各误差影响因素的产生机理和对材料去除的影响.通过仿真和实验分析,得到压力波动、磨粒沉降作用和流体紊动作用的波动范围,构建了基于各误差的材料去除稳定性的完整表达式,理论计算误差范围与实验误差范围吻合.

关键词：光学制造、射流抛光、误差分析、材料去除稳定性

所属期刊栏目：31

分类号：TH74;TP60(仪器、仪表)

资助基金：国家自然科学基金60808017

在线出版日期：2011-05-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：162-166