无机缓冲层对柔性In2O3:SnO2薄膜光电及耐弯曲性能影响的研究

摘要：

在室温条件下采用离子辅助沉积技术在柔性衬底上依次制备无机缓冲层及In2O3:SnO2(ITO)薄膜,重点研究了不同无机缓冲层对柔性ITO薄膜光电及耐弯曲性能的影响.研究发现SiO2,TiO2,Ta2O5和Al2O3无机缓冲层对ITO薄膜的方阻、光学透射比、耐弯曲性能等机电特性影响各异:添加SiO2缓冲层的ITO薄膜其方阻变化率最大,方阻降低率达29.8%,而添加Al2O3缓冲层的ITO薄膜其方阻变化率最小,方阻降低率仅为5.6%;添加Ta2OO5缓冲层的ITO薄膜其可见光透射比最佳,平均透射比达85%以上,而添加SiO2缓冲层的ITO薄膜其可见光透射比最差,但其平均透射比也高于80%;SiO2在耐弯曲半径上对ITO薄膜的改善效果比TiO2更佳,而当ITO薄膜以弯曲半径R=0.8 cm和R=1.2 cm发生内弯时,SiO2对ITO薄膜耐弯曲次数性能的改善效果不及TiO2.

关键词：柔性ITO薄膜、无机缓冲层、离子辅助沉积、光电特性、耐弯曲性能

所属期刊栏目：30

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：国家部委预研项目51302060203

在线出版日期：2010-09-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：1205-1210