基于光刻工艺的阶跃滤光片式微型分光器件研制

摘要：

为了消除机械掩模的尺寸限制和阴影效应,采用基于光刻掩膜的组合刻蚀法来制备阶跃滤光片,并成功地实现了16×1通道阶跃滤光片式微型分光器件的制备,该分光器件中滤光片单元的宽度只有90 μm,总体尺寸不到2 mm.各滤光片通道分布在632.4 nm到739.6 nm之间,带宽均小于2.9 nm,透过率均高于70%.这样的阶跃滤光片最小单元尺寸可达微米量级,阴影效应可减小到微米甚至亚微米量级,与电荷耦合器件(CCD)完全匹配,可以作为微型分光器件来构建应用于空间等领域的微型光谱系统,从而促进相应光谱仪器的微型化.

关键词：光学器件、阶跃滤光片、微型、分光、光刻

所属期刊栏目：29

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60508018.60711120168.10874196;上海市青年科技肩明星及跟踪计划05QMX1459,08QH14025;上海市研发基地协作能力建设专项08DZ2201000;中国科学院知识创新工程青年人才领域前沿资助课题

在线出版日期：2009-06-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1358-1362