光学元件超精密气囊抛光关键技术研究现状
空间光学元件对面形精度和表面质量有着极高的要求,气囊抛光采用了新型的抛光工具和特殊的运动形式,是一种高精度、高效率的光学元件加工方法,尤其适用于非球面的加工,具有广阔的应用前景.分析了气囊抛光技术的基本原理及该技术的发展过程,介绍了气囊抛光相关技术的研究情况和实验结果,对几项关键技术的研究现状进行综述,重点介绍材料去除特性、驻留时间控制算法、边缘精度控制以及最新开发的喷液抛光技术的研究情况.
空间光学、超精密加工、气囊抛光、光学元件、面形精度
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O439(光学)
国家863计划资助课题
2009-03-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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