热丝和射频等离子体化学气相沉积法制备定向碳纳米管薄膜

摘要：

采用热丝和射频等离子体复合化学气相沉积设备(PE-HF-CVD),以CH4、H2和N2为反应气体.在较低衬底温度下(500℃),用简单的催化剂制备方法--旋涂法在硅片上涂覆Ni(NO3)2溶液,经热处理及H2还原后的Ni颗粒为催化剂,在硅衬底上制备出了垂直于硅片且定向生长的碳纳米管薄膜.扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)结果显示,1 mol/l的硝酸镍溶液旋涂硅片所得催化剂制得的碳纳米管管径为30～50 nm,长度超过4μm,定向性好.并用拉曼光谱(Raman)对不同摩尔浓度Ni(NO3)2溶液条件下制备的碳纳米管薄膜样品进行了表征.

关键词：薄膜光学、定向碳纳米管薄膜、低温制备、热丝射频等离子体增强化学气相沉积、旋涂法

所属期刊栏目：29

分类号：TB34(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金50372013;高等学校博士学科点专项科研基金20050562002;广东省自然科学基金07001769;广东省科技计划项目2004B10301008;广东省教育厅自然科学研究重点项目04Z005资助课题

在线出版日期：2008-11-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1824-1827