离焦激光直写的线宽稳定方法

摘要：

为了提高激光直写加工衍射光学元件时的线条质量,提出一种离焦激光直写的线宽稳定方法.该方法通过同时调节激光功率和离焦量,使光刻胶的曝光阈值处于线宽对曝光量的变化率较小位置,从而可以弱化线宽对实际曝光量或光刻胶阈值等变化的敏感度,提高利用离焦方法进行衍射光学元件制作时的线宽稳定性.推导了稳定线宽后的光功率控制模型和线宽模型,模型中的变量仅为离焦量,降低了光功率控制的复杂性.利用632.8 nm的He-Ne激光和NA-0.1的物镜在CCD上对采用该方法后的离焦线宽模型进行验证,实验结果与理论模型吻合较好.该方法对于线宽稳定度较高的衍射光学元件制作具有重要价值.

关键词：集成光学、线宽稳定性、光功率控制、离焦激光直写、衍射光学元件

所属期刊栏目：29

分类号：TN249;TN305.7(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金50675052资助课题

在线出版日期：2008-11-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1730-1734