LiGaO2衬底上ZnO外延膜的结构与光学特性

摘要：

采用磁控溅射法在(001),(100)及(010)LiGaO2衬底上制备了ZnO薄膜,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、透过光谱以及光致发光谱(PL)对薄膜的结构、形貌及光学性质进行了表征.结果表明LiGaO2衬底不同晶面上制备的ZnO薄膜具有不同的择优取向,在(001)、(100)及(010)LiGaO2上分别获得了[001]、[1100]及[1120]取向的ZnO薄膜;不同取向的ZnO薄膜表面形貌差异较大;薄膜在可见光波段具有较高的透过率;在ZnO薄膜的光致发光谱中只观察到了位于378 nm的紫外发射峰,而深能级发射几乎观察不到,(1100)取向的薄膜紫外发射峰强度最大,半高宽也最小,薄膜光致发光件质的差异丰要和晶粒尺寸有关.

关键词：薄膜光学、半导体材料、ZnO薄膜、磁控溅射、LiGaO2、光致发光谱

所属期刊栏目：28

分类号：O47(半导体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60676004;上海市科委幕金06dz11402;国家863计划2006AA03A101资助课题

在线出版日期：2008-09-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1420-1424