13.4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计

摘要：

基于严格的矢量耦合波方法,结合纳米级光栅实际制作工艺,定量分析了在13.4 nm软X射线(TE偏振)正入射条件下,光栅材料、厚度、占空比、梯形浮雕底角大小等因素对光栅一级衍射效率的影响.结果表明,在此波段处,Si3N4、Cr、Au浮雕的相位作用对光栅衍射起重要影响,其中非金属材料Si3N4比金属材料Cr、Au的相位作用更明显.最后优化得到了用Si(或Si3N4)做衬底的si3N4、Cr、Au光栅,分析结果显示,其一级衍射效率优于目前用于13.4 nm软X射线干涉光刻的Cr、Si3N4复合光栅.

关键词：干涉光刻、软X射线透射光栅、严格耦合波方法、复折射率、衍射效率

所属期刊栏目：28

分类号：O436.1(光学)

资助基金：上海同步辐射装置干涉光刻实验站项目资助课题

在线出版日期：2008-09-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1225-1230