基于软光刻的多层光互连垂直耦合结构

摘要：

设计并试制了一种新型垂直耦合光互连线路结构,可用于高速计算机内部等垂直堆叠的多层连通光互连的芯片间光信息通讯.其结构简单,且具有较小的连接损耗(可低至0.05 dB).对四种不同的典型波导截面(分别为30 μm×30 μm,50μm×50μm,100 μm×100 μm,200 μm×200 μm),利用蒙特卡罗多光线追迹分析法对跨越1～6层的垂直耦合结构进行了性能分析,发现当该结构的跨越高度与横向跨越距离的比值约为0.128时,可实现较理想的低损耗(低于1 dB)光传输.采用软光刻的方法制备了实验多层光互连线路,其性能测试与理论结果基本相符.

关键词：导波光学、垂直耦合光互连、软光刻、光线追迹

所属期刊栏目：28

分类号：TN9;TP3

资助基金：国家自然科学基金60477019;60577025

在线出版日期：2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：349-354